플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO₂ 증착의 불균일성 원인 연구 : The Study on the Non-Uniformity of PECVD SiO₂Deposition by the Plasma Diagnostics
The Study on the Non-Uniformity of PECVD SiO₂Deposition by the Plasma Diagnostics
- 주제(키워드) PECVD , non-uniformity , deposition , SiO₂ , QMS , DLP
- 발행기관 한국전기전자재료학회
- 발행년도 2011
- 총서유형 Journal
- UCI G704-000026.2011.24.2.012
- KCI ID ART001523556
- 본문언어 한국어
초록/요약
본 연구는 플라즈마 진단을 통해 대면적에서의 PECVD SiO₂증착의 불균일 증착 원인을 연구하였다. 챔버내의 플라즈마 활성종의 공간적 분포를 랑뮤어프로브와 새롭게 디자인된 프로브 타입의 사중극 질량분석기를 통해 얻었다. 플라즈마 활성종의 공간적 분포와 SiO₂박막의 증착속도 사이의 관계로 부터, SiO₂박막의 불균일 증착은 산소 라디칼의 밀도와 전자 온도의 공간적 분포와 밀접한 관련이 있는 것을 확인하였다.
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